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密真空氣氛爐

簡略說明:密真空氣氛爐廣泛用于高校、科研院所、工礦企業等做粉末、電子、冶金、醫藥、陶瓷、新材料、化工、金屬燒結和金屬熱處理等實驗和生產理想設備。

  • 公司特征:生產廠家
  • 版本更新時段:2026-03-15
  • 訪  問  量:1312
食品講述
品牌中奧菲達升溫速度(達到最高溫)60/min
內部尺寸300-200-120mm加熱方式硅碳棒
最大功率4000kW控溫精度1℃
最高溫度1400℃價格區間1萬-2萬
儀器種類真空爐產地類別國產
應用領域醫療衛生,環保,生物產業,綜合

適用范圍
      本設備廣泛用于高校、科研院所、工礦企業等做粉末、電子、冶金、醫藥、陶瓷、新材料、化工、金屬燒結和金屬熱處理等實驗和生產理想設備。

 
密真空氣氛爐真空氣氛系統:
      真空密封系統采用特種設計技術,具有操作安全、方便、真空度高,密封性好,真空保持時間長,密封采用不銹鋼金屬法蘭及O型耐高溫氟膠圈密封,氣體經過流量計后由針型閥開關進入爐管內,閥控配有進氣閥,排氣、抽真空閥。減壓閥,安全閥,可通多種氣體、氬氣、氮氣、氧氣、氧化碳、氨分解氣等氣體,可充入高壓氣體,氣氛壓力限值0.1MPa,采用*的密封技術,可長時間保壓,安全性能好,操作方便。


密真空氣氛爐主要技術參數:

項  目

廠家

有效性操作的尺寸

很好的適用寬度

效果選擇規格

更好用到外形尺寸

爐膛尺寸大小

   mm

200X150X150

300X200X200

500X300X200

500X500X500

 工作溫度類屬

1000℃、1200℃、1400℃、1600℃、1700℃、1800℃

 把握度

±1℃

溫濕度更加均勻度

≤1

≤1℃

≤1.5℃

≤2℃

煮沸部件

 

依據環境溫度而定,主要采用功率電阻絲、硅碳棒、硅鉬棒、石墨。

電壓值/聲音頻率

 AC/Hz

220/50

380/50

380/50

380/50

來設計熱效率

KW

4

10

15

25

溫控儀的方法

 

微手機智力調控新技術,有著PID調控、全半自動調控、自整定功能表,多段軟件程序流程圖和程序流程圖編寫,并可建制多種多樣提溫、墻體保溫、升溫軟件程序流程圖,控溫高;集成式模組可控性硅調控、移相釋放。

 維護傳動裝置

獨特超溫護理、過壓、超流、漏電、擊穿等護理,自動的化階段較高,

具體輔助件

持續高溫毛織手套,坩堝鉗,發冷pcb板,門堵,良好率證,產品說明書怎么寫書,保質書。

 可標準配置

無紙記錄儀,有紙記錄儀,電腦液晶觸摸屏,人機畫面
通訊聯機功能,多臺設備臺電腦控制,打印與保存數據,實現操作簡單方便,實時可查看與保存數據。

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